效用與特別的性質

在PCB電路板上，鎳用來作為貴金屬和賤金屬的襯底鍍層，同時，對于一點單面印制板，鎳也常用作面層。對于重擔荷磨耗的一點外表，如開關觸點、觸片或插頭金，用鎳來作為金的襯底鍍層，可大大增長耐磨性。當用來作為阻止層時，鎳能管用地避免銅和其他金屬之間的廓張。啞鎳/金組合鍍層每常用來作為抗腐刻的金屬鍍層，并且能適合熱壓焊與釬焊的要求，惟獨只有鎳能夠作為含氨類腐刻劑的抗蝕鍍層，而不需熱壓焊又要

求鍍層潔凈的PCB電路板，一般認為合適而使用光鎳/金鍍層。鎳鍍層厚度普通不低于2.5微米，一般認為合適而使用4-5微米。

PCB電路板低應力鎳的淀積層，一般是用改性型的瓦特鎳鍍液和具備減低應力效用的添加劑的一點氨基磺酸鎳鍍液來鍍制。

我們常說的PCB鍍鎳有光鎳和啞鎳（也稱低應力鎳或半潔凈鎳），一般要求鍍層平均精細周密，孔隙率低，應力低，延展性好的獨特的地方

氨基磺酸鎳（氨鎳）

氨基磺酸鎳廣泛用來作為金屬化孔電鍍和印制插頭接觸片上的襯底鍍層。所取得的淀積層的內部策應力低、硬度高，且具備極為優良的延展性。將一種去應力劑參加鍍液中，所獲得的鍍層將稍有一點兒應力。因為鍍層的應力低，所以取得廣泛的應用，但氨基磺酸鎳牢穩性差，其成本相對高。

改性的瓦特鎳（硫鎳）

改性瓦特鎳根據處方配藥，認為合適而使用硫酸鎳，連同參加溴化鎳或氯化鎳。因為內部策應力的端由，所以大都選用溴化鎳。它可以出產出一個半潔凈的、稍有一點兒內部策應力、延展性好的鍍層；況且這種鍍層為隨即的電鍍很容易活化，成本相對底。

鍍液各組分的效用

主鹽──氨基磺酸鎳與硫酸鎳為鎳液中的主鹽，鎳鹽主要是供給鍍鎳所需的鎳金屬離子并兼起著導電鹽的效用。鍍鎳液的液體濃度隨供應廠商不一樣而稍有不一樣，鎳鹽準許含量的變動較大。鎳鹽含量高，可以運用較高的負極電流疏密程度，淤積速度快 ，常用作高速鍍厚鎳。不過液體濃度過高將減低負極極化，散布有經驗差，并且鍍液的帶出虧損大。鎳鹽含量低淤積速度低，不過散布有經驗美好，能取得形成晶體精細周密潔凈鍍層。

緩和沖突劑──硼酸用來作為緩和沖突劑 ，使鍍鎳液的PH值保持在一定的范圍內。實踐證實，當鍍鎳液的PH值過低，將使負極電流速率減退；而PH值過高時，因為H2的不斷析出 ，使緊靠負極外表近旁液層的PH

值迅疾升高，造成Ni(OH)2膠體的生成，而Ni(OH)2在鍍層中的摻雜，使鍍層脆性增加，同時 Ni(OH)2膠體在電極外表的吸附，還會導致氫氣泡兒在電極外表的停留不動，使鍍層孔隙率增加。硼酸不止有PH緩和沖突效用，并且他可增長負極極化，因此改善鍍液性能，減損在高電流疏密程度下的“燒焦“現象。硼酸的存在還有幫助于改善鍍層的機械性能。

陽極活化劑──除硫酸鹽型鍍鎳液運用不溶性陽極外，其他類型的鍍鎳工藝均認為合適而使用可溶性陽極。而鎳陽極在通電過程中極易鈍化，為了保障陽極的正常溶解，在鍍液中參加一定量的陽極活化劑。經過嘗試發覺，CI—氯離子是最好的鎳陽極活化劑。在包括氯化鎳的鍍鎳液中，氯化鎳除開作為主鹽和導電鹽外，還起到達陽極活化劑的效用。在不含氯化鎳或其含量較低的電鍍鎳液中，需依據實際性況添加一定量的食鹽。 溴化鎳或氯化鎳還常用來作去應力劑用來維持鍍層的內部策應力，并賦與鍍層具備半潔凈的外觀。

添加劑——添加劑的主要成份是應力消弭劑，應力消弭劑的參加，改善了鍍液的負極極化，減低了鍍層的內部策應力，隨著應力消弭劑液體濃度的變動，可以使鍍層內部策應力由張應力變更為壓應力。常用的添加劑有：萘磺酸、對甲苯磺酰胺、甲苯糖精等。與沒有去應力劑的鎳鍍層相形，鍍液中參加去應力劑將會取得平均精細周密并具備半潔凈的鍍層。一般去應力劑是按安培一鐘頭來添加（現通用組合專用添加劑涵蓋防針孔劑等）。

潤濕劑——在電鍍過程中，負極上析出氫氣是必然性的，氫氣的析出不止減低了負極電流速率，并且因為氫氣泡兒在電極外表上的停留不動，還將使鍍層顯露出來針孔。鍍鎳層的孔隙率是比較高的，為了減損或避免針孔的萌生，應該向鍍液中參加小量的潤濕劑，如十二烷基硫酸鈉、二乙基已基硫酸鈉、正辛基硫酸鈉等，它是一種陰離子型的外表活性事物，能吸附在負極外表上，使電極與溶液間的界面拉力減低，氫氣泡兒在電極上的潤濕接觸須減小，因此使氣泡兒容易離去電極外表，避免或減緩了鍍層針孔的萌生。

鍍液的保護

一、溫度——不一樣的鎳工藝，所認為合適而使用的鍍液溫度也不一樣。溫度的變動對鍍鎳過程的影響比較復雜。在溫度較高的鍍鎳液中，取得的鎳鍍層內部策應力低 ，延展性好，溫度加致50度C時鍍層的內部策應力達到牢穩。普通操作溫度保持在55--60度C。假如溫度過高，將會發生鎳鹽水分解，生成的氫氧氣化鎳膠體使膠體氫氣泡兒停留不動，導致鍍層顯露出來針孔，同時還會減低負極極化。所以辦公溫度是很嚴明的 ，應當扼制在規定的范圍之內，在實職中是依據供應商供給的最優溫控值 ，認為合適而使用常溫扼制器維持其辦公溫度的牢穩性。

二、PH值——實踐最后結果表明，鍍鎳電解液的PH值對鍍層性能及電解液性能影響莫大。在PH≤2的鏹水性電鍍液中，沒有金屬鎳的淤積，只是析出輕氣 。普通PCB鍍鎳電解液的PH值保持在3—4之間 。PH值較高的鍍鎳液具備較高的散布力和較高的負極電流速率。不過PH過高時，因為電鍍過程中負極不停地析出輕氣，使負極外表近旁鍍層的PH值升高較快，當大于6時，將會有輕氧氣化鎳膠體生成，導致氫氣泡兒停留不動，使鍍層顯露出來針孔。氫氧氣化鎳在鍍層中的摻雜 ，還會使鍍層脆性增加。PH較低的鍍鎳液，陽極溶解較好，可以增長電解液中鎳鹽的含量，準許運用較高的電流疏密程度，因此鞏固出產。不過PH 過低 ，將使取得潔凈鍍層的溫度范圍變窄。 參加碳酸鎳或堿式碳酸鎳，PH值增加 ；參加氨基磺酸或硫酸，PH值減低，在辦公過程中每四鐘頭查緝調試一次PH值。

三、陽極——到現在為止所能見到的PCB常理鍍鎳均認為合適而使用可溶性陽極 ，用鈦籃作為陽極內裝鎳角已相當存在廣泛。其長處是其陽極平面或物體表面的大小可做得足夠大且未變動，陽極保護調養比較簡單 。鈦籃應裝入聚丙烯材料織成的陽極袋內避免陽極泥掉入鍍液中。并應定期清洗和查緝小孔是否順暢。新的陽極袋在運用前，應在沸騰的水中泡在水中。

四、凈化——當鍍液存在有機化合物污染時，就應當用活性炭處置。但這種辦法通例會去除一小批去應力劑（添加劑），務必加以補給。其處置工藝如下所述；

1、抽取陽極，加除雜水5ml/l，加熱（60—80度C）鼓動（氣拌和）2鐘頭。

2、有機雜質很長時間，先參加3—5ml/lr的30百分之百防腐劑處置，氣拌和3鐘頭。

3、將3—5g/l面子狀活性在不斷拌和下參加，接著氣拌和2鐘頭，關拌和靜置4鐘頭，加助濾粉運用備用槽來過淋同時清缸。

4、清洗保護調養陽極掛回，用鍍了鎳的瓦壟形鐵板作負極，在0.5—0.1安/平方分米的電流疏密程度下施行拖缸8—12鐘頭（當鍍液存在無機物污染影響品質時，也常認為合適而使用）

5、換過淋芯（普通用一組棉芯一組碳芯串連蟬聯過淋，按周期性便換可管用延期大處置時間，增長鍍液的牢穩性），剖析調試各參變量、參加添加劑潤濕劑即可試鍍。

五、剖析——鍍液應當用工藝扼制所規定的工藝規程的要領，定期剖析鍍液組分與赫爾槽嘗試，依據所得參變量引導出產部門調節鍍液各參變量。

六、拌和——鍍鎳過程與其他電鍍過程同樣 ，拌和的目標是為了加速傳質過程，以減低液體濃度變動，增長準許運用的電流疏密程度最大限度。對鍍液施行拌和還有一個非常關緊的效用，就是減損或避免鍍鎳層萌生針孔。由于，電鍍過程中，負極外表近旁的鍍離子匱竭，氫氣的數量多析出 ，使PH值升漲而萌生氫氧氣化鎳膠體，導致氫氣泡兒的停留不動而萌生針孔。增強對留鍍液的拌和，就可以消弭上面所說的現象。常用壓縮空氣、負極移動及強迫循環（接合碳芯與棉芯過淋）拌和。

七、負極電流疏密程度——負極電流疏密程度對負極電流速率、淤積速度及鍍層品質均有影響。測試最后結果表明，當認為合適而使用PH較底的電解液鍍鎳時，在低電流疏密程度區，負極電流速率隨電流疏密程度的增加而增加；在高電流疏密程度區，負極電流速率與電流疏密程度無關，而當認為合適而使用較高的PH電鍍液鎳時，負極電流速率與電流疏密程度的關系半大。
與其他鍍種同樣，鍍鎳所選取的負極電流疏密程度范圍也應視電鍍液的組分、溫度及拌和條件而定，因為PCB電路板拼板平面或物體表面的大小較大，使高電流區與低電流區的電流疏密程度相差非常大，普通認為合適而使用2A/dm2為宜。

故障端由與擯除

一、麻坑：麻坑是有機化合物污染的最后結果。大的麻坑一般解釋明白有油污染。拌和不好，就不可以斥逐掉氣泡兒，這便會形成麻坑。可以運用潤濕劑來減小它的影響,我們一般把小的麻點叫針孔，處置不好、有金屬什質、硼酸含量太少、鍍液溫度太低都會萌生針孔。鍍液保護及工藝扼制是關鍵，防針孔劑應用作工藝牢穩劑來補加。

二、不細膩、毛刺 ：不細膩就解釋明白溶液臟，充分過淋就可匡正（PH太高易形成氫氧氣化物沉淀應加以扼制）。電流疏密程度太高 、陽極泥及補加水不純帶入雜質，嚴重時都將萌生不細膩及毛刺。

三、接合力低：假如銅鍍層未經充分去氧氣化層，鍍層便會顯露出來剝落現象，銅和鎳之間的黏著力差 。假如電流中斷 ，那將會在中斷處導致鎳鍍層的自身剝落，溫度太低，嚴重時也會萌生剝落。

四、鍍層脆、可焊性差：當鍍層受屈曲或遭受某種程度的磨耗時，通例會顯示出鍍層脆。這就表明存在有機化合物或重金屬什質污染，添加劑過多、夾帶的有機化合物和電鍍抗蝕劑，是有機化合物污染的主要出處，務必用活性炭加以處置，添加濟不充足及PH過高也會影響鍍層脆性。

五、鍍層發暗和顏色光澤翹棱均 ：鍍層發暗和顏色光澤翹棱均，就解釋明白有金屬污染。由于普通都是先鍍銅后鍍鎳，所以帶入的銅溶液是主要的污染源。關緊的是 ，要把掛具所沾的銅溶液減損到最低程度。為了去除槽中的金屬污染 ，特別是去銅溶液應當用斑紋鋼負極，在2~5安/平方英尺的電流疏密程度下，每加侖溶液空鍍5安培一鐘頭。前處置不好、低鍍層不好、電流疏密程度太小、主鹽液體濃度太低、電鍍電源回路接觸不好都會影響鍍層顏色光澤。

六、鍍層燒灼 ：引動鍍層燒灼的有可能端由：硼酸不充足，金屬鹽的液體濃度低、辦公溫度太低、電流疏密程度太高、PH太高或拌和不充分。

七、淀積效率低： PH值低或電流疏密程度低都會導致淀積效率低。

八、鍍層起泡或起皮：鍍前處置不好、半中腰斷電時間過長、有機雜質污染 、電流疏密程度過大、溫度太低、PH太高或太低、雜質的影響嚴重特殊情況萌生起泡或起皮現象。

九、陽極鈍化：陽極活化劑不充足，陽極平面或物體表面的大小太小電流疏密程度太高。

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