要出產(chǎn)能用于智強(qiáng)手機(jī)用的COF FPC載板和平常的的電視面板COF FPC又有啥子不一樣？加工困難程度又何在？

傳統(tǒng)用在電視領(lǐng)域的COF FPC，在出產(chǎn)加工環(huán)節(jié)實(shí)際上與平常的的FPC相差不太大，除開FPC的線寬線距與平常的FPC相形更加精密細(xì)致外，依舊是認(rèn)為合適而使用標(biāo)準(zhǔn)減成腐刻法出產(chǎn)。

而智強(qiáng)手機(jī)用的COF FPC載板則認(rèn)為合適而使用了與標(biāo)準(zhǔn)減成腐刻法絕對不一樣的形式出產(chǎn)，認(rèn)為合適而使用的是半導(dǎo)體芯片的一種加成法形式來出產(chǎn)，業(yè)界稱這種工藝為 SAP半加成法。由于標(biāo)準(zhǔn)減成腐刻法出產(chǎn)出來的FPC線寬線距最小普通都在15微米以上，對于線路更精密細(xì)致的COF出產(chǎn)工藝基本上力不從心。

SAP半加成法的加工工藝主要來自SLP類載板PCB。不過進(jìn)入了智強(qiáng)手機(jī)行業(yè)應(yīng)用，仍然水果最早把這種工藝大規(guī)模用在握機(jī)主板的出產(chǎn)上。

而在更早之前，水果與三星、LG研發(fā)新式的OLED顯露部件時(shí)，為了改善柔性O(shè)LED產(chǎn)品的部件封裝良率與產(chǎn)品質(zhì)性格能，認(rèn)為合適而使用了半導(dǎo)體工藝中的一種名為ALD的原子淤積出產(chǎn)工藝來對OLED部件施行封裝，不惟把封裝層的厚度扼制在了0.1微米以下，還把OLED的部件封裝良率大幅提高，OLED產(chǎn)品的部件運(yùn)用生存的年限也增加了幾倍以上。

當(dāng)ALD工藝在OLED部件封裝上應(yīng)用一天一天慢慢地成熟后，水果還把這種工藝擴(kuò)張了水果手機(jī)PCB的出產(chǎn)上，水果近幾代的iPhone手機(jī)PCB主板，所有都是認(rèn)為合適而使用ALD工藝的半加成法來出產(chǎn)

而在各個(gè)方面屏顯露技術(shù)著手在智強(qiáng)手機(jī)上應(yīng)用后，這種ALD工藝的半加成法加工形式也引入到達(dá)COF FPC載板出產(chǎn)上，除開水果的iPhone XR LCD顯露屏所有認(rèn)為合適而使用了COF工藝外，三星大多的各個(gè)方面屏OLED，也著手導(dǎo)入COF工藝。

與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常完整的日、韓、臺相形，中國大陸地區(qū)的COF產(chǎn)業(yè)鏈基本上都只能出產(chǎn)電視面板用的COF FPC基板，所有都是認(rèn)為合適而使用標(biāo)準(zhǔn)減成腐刻法出產(chǎn)工藝。然而到現(xiàn)在為止也有廠商和研討機(jī)構(gòu)，著手引入ALD機(jī)臺，開發(fā)有關(guān)的ALD工藝的半加成法出產(chǎn)工藝。

而在智強(qiáng)手機(jī)用的COF邦定機(jī)臺上，到現(xiàn)在為止還是是由東洋廠商主導(dǎo)，其他的廠商基本上還居于開發(fā)階段。因?yàn)檫@個(gè)當(dāng)日、韓、臺廠商都沒有意愿在智強(qiáng)手機(jī)用COF工藝有關(guān)環(huán)節(jié)上增加產(chǎn)能擴(kuò)大產(chǎn)量的事情狀況下，中國大陸地區(qū)的公司想打通COF產(chǎn)業(yè)鏈來增加產(chǎn)能，還需求面板廠、IC廠、FPC廠和有關(guān)的出產(chǎn)設(shè)施廠商并肩策劃，一塊兒盡力盡量，并同步打破后，才可能成功實(shí)現(xiàn)。

具體到COF FPC的基板出產(chǎn)上，基本上認(rèn)為合適而使用了以下的形式來施行。

首先，COF FPC依舊需求依據(jù)圖紙預(yù)設(shè)確認(rèn)要么要在基板上打孔，假如要的話，先把這一步完成。而后對FPC基板施行不可缺少的清洗后，進(jìn)入了ALD機(jī)臺經(jīng)過加工連接劑層，加工完成后形成不到一納米厚的連接材料遮蓋在FPC基板上，這層連接材料業(yè)界也稱之為“銅胚珠”。

后續(xù)的工藝基本上與傳統(tǒng)的FPC出產(chǎn)工藝相差無幾，在有“銅胚珠”的FPC基板上化學(xué)鍍銅淤積，把銅層厚度扼制在0.1微米左右，而后涂布光刻膠，再用光刻技術(shù)形線路圖形，再用電解鍍銅工藝形成最后電路，最終脫落抗蝕劑后，施行閃蝕處置就完成整個(gè)兒COF FPC基板的出產(chǎn)流程了。

從上可以看出，COF FPC基板的出產(chǎn)流程除開引入了ALD半導(dǎo)體出產(chǎn)工藝外，與傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)減成腐刻法最大的差別，就是無須在基板領(lǐng)導(dǎo)壓壓延銅作為導(dǎo)電層，而是認(rèn)為合適而使用了化學(xué)淤積鍍銅來形成主要的導(dǎo)電層，所以能加工很薄的產(chǎn)品，并形成更精密細(xì)致的線路。

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